RHP150 MLCC는 다층 세라믹 캐패시터의 소결에 사용 할 수 있는 특수한 목적의 급속 열처리 장치 입니다.
본 장치는 선형 타입의 램프를 양면 배치한 이중 배열 블록 히터와 MLCC 표면에 전기적 특성을 유지하고 바인더를 제거하기 위하여
정밀한 온도제어와 고온 소성을 구현할 수 있는 챔버를 채택 하였습니다.
석영 유리창(Quartz window)가 없는 석영 튜브 구조로 공정이 진행 가능하도록 설계되어 있습니다.
RHP150 MLCC는 기존의 RTP와는 달리 고온에서 장시간 어닐링 할 수 있는 열처리 장치입니다.
Application
ㆍRTA, MLCC baking(firing)
ㆍHigh temperature anneal capability
ㆍ□230 x 230 x 2.5t Susceptor
Specification
ㆍTemperature sensor accuracy : < ±0.5℃
ㆍTemp. control accuracy : < ±1.5℃
ㆍProcess temperature range : 100℃ ~ 1100℃
ㆍRamp up & down rate : 40℃/sec & 4℃/sec
ㆍTemperature uniformity : < ±2.0℃
ㆍPressure environment : ATM, Vacuum is option
System features
ㆍHeater, chamber mono-block body
ㆍLamp Cooling air nozzle
ㆍDouble layer lamp heating (Linear type tungsten Halogen lamp arrayed)
ㆍ2 point temperature measurement by non contact pyrometer
ㆍLower CoO and CoC
ㆍGas Distribution Plate (Top to down gas flow)
ㆍSemi-auto transfer(Susceptor moving)
ㆍProduction proven Equipment control software